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中国IC设计业大起底:发展现状及热点趋势解读

中国IC设计业大起底:发展现状及热点趋势解读
来源:OFweek电子工程网 时间:2014-05-13
  • OFweek 电子工程 网讯:在2013年,工艺28纳米(含32和28纳米)的 芯片 流片在数量上突破了500家,28纳米成为了当前数字芯片的主流工艺。下一代的工艺进展如何?20纳米和14纳米哪个会更适合?笔者近采访了SynopsysChairman&co-CEOAartdeGeubs博士,他的专业见解值得中国半导体产业业者细细体会。

    您认为现在 IC设计 和产业的趋势是什么?

    我们通过自己的工具和IP与业界的半导体公司都在互动,在此我很乐意一些我IC设计的关键趋势的看法。趋势之一就是,在芯片发展上,摩尔定律依然还在发生作用。而且更引人注意的是,FinFET 晶体管 工艺已经应用到某些领域了,我认为它正在开启更一个时代!它是更小尺寸的晶体管,更低功耗的晶体管,更快的晶体管,也许(maybe)还是更便宜的晶体管。

    SynopsysChairman&co-CEOAartdeGeubs博士

    请注意我说的是“也许”。因为摩尔定律既包含了技术上的意义,也有经济上的含义。经济上可能会有些压力,这并不是坏事,因为现代芯片所创造的价值是巨大的。

    有意思的一件事,我昨天刚刚与业界巨头英特尔的高层聊天,他跟我谈起了新一代的16/14纳米、10纳米甚至是7纳米的工艺。事实上我其实已经知道这些了,因为我们的几个技术专家已经与他们在这些工艺节点上有紧密的合作。

    当然,这些晶体管技术离我们可能还很远,但我们都知道,它一定会发生。我们也正在朝那里努力。

    另一点需要指出的是,芯片设计受到PPAY(功耗、性能、尺寸和良率)的限制,同时功能又越来越复杂,IP复用变得很重要。由于当下正是中国政府大力推动半导体产业发展的时机,相比其它国家的芯片公司,中国本土芯片设计公司的IP复用比例更高,当然这也更符合现代的方法。

    请问20纳米和14纳米工艺的进展如何?

    从我们的统计来看,目前22或20纳米的进展比较平缓,而45纳米和28纳米的工艺依然还很强劲。事实上,Synopsys很幸运地深度参与了FinFET工艺的研发,过去多年都在与伯克利大学和其它顶尖晶圆制造厂合作。FinFET的IP和工具都已经准备就序。

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